SPIE Photomask Technology Monterey
28. - 29. septiembre 2021 | Exposición de máscaras fotografía

SPIE Photomask Technology es una técnica de conferencias y exposiciones sobre la tecnología fotomáscara y el principal evento de su tipo en el mundo. El objetivo de Photomask es reunir a ingenieros e investigadores de todo el mundo en el ámbito de las tecnologías relacionadas con fotomáscara y para discutir los últimos avances, aplicaciones y tendencias futuras. El programa del congreso contará con ponencias invitadas, ponencias, sesiones de carteles, y mesas redondas. Photomask es una oportunidad ideal para presentar el equipo en relación con la tecnología fotomáscara, piezas, materiales y software.
La SPIE Photomask Technology tendrá lugar en 2 días de martes, 28. septiembre a miércoles, 29. septiembre 2021 en Monterey.
28.09.2021 - 29.09.2021*
martes - miércoles, 2 días
Audiencia:
únicamente para visitantes profesionales
Frecuencia:
anualmente
Hora local:
04:10 horas (UTC -07:00)
Advertencia sobre COVID-19
Debido a la corona pandémica (COVID-19), la información sobre ferias y eventos pueda estar incompleta o desactualizada. Puede obtener más información del organizador.
Lugar de la Feria:
Monterey Marriott,350 Calle Principal, 93940 Monterey, California, EE.UU.
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para la fecha de la feria en Monterey
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SPIE
1000 20th St
WA 98227 Bellingham, EE.UU.
Tel: +1 (3)60 6763290
Fax: +1 (3)60 6471445
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21. - 25. septiembre 2020
Online
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Monterey
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17. - 20. septiembre 2018
Monterey
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11. - 14. septiembre 2017
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12. - 14. septiembre 2016
San José
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29. sep. - 01. oct. 2015
Monterey
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16. - 18. septiembre 2014
Monterey
Lugar de la Feria:
Monterey Marriott,350 Calle Principal, 93940 Monterey, California, EE.UU.
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Productos: equipo de producción de foto máscara, foto máscara, foto máscara en blanco, foto máscara materiales, grabadoras de haz de electrones, grabadoras láser, …
Sectores: fotografía, …
Ferias en los sectores: Ferias de fotografía
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