SPIE Photomask Technology + EUV Lithography Monterey
29. sep. - 03. oct. 2024 | Exposición de máscaras fotografía
Sólo 150 dias
Fecha:
29.09.2024 - 03.10.2024*
domingo - jueves, 5 días
Contacto de Feria
customerservice@spie.org
spie.org
Audiencia:
únicamente para visitantes profesionales
Frecuencia:
anualmente
SPIE Photomask Technology + EUV Lithography es una técnica de conferencias y exposiciones sobre la tecnología fotomáscara y el principal evento de su tipo en el mundo. El objetivo de SPIE Photomask Technology + EUV Lithography es reunir a ingenieros e investigadores de todo el mundo en el ámbito de las tecnologías relacionadas con fotomáscara y para discutir los últimos avances, aplicaciones y tendencias futuras. El programa del congreso contará con ponencias invitadas, ponencias, sesiones de carteles, y mesas redondas. SPIE Photomask Technology + EUV Lithography es una oportunidad ideal para presentar el equipo en relación con la tecnología fotomáscara, piezas, materiales y software.
La SPIE Photomask Technology + EUV Lithography tendrá lugar en 5 días de domingo, 29. septiembre a jueves, 03. octubre 2024 en Monterey.
Hora local:
17:48 horas (UTC -07:00)