Photomask Japan es un simposio y exposición internacional sobre la técnica de litografía máscaras fotografía y en Japón. El objetivo del simposio es reunir a ingenieros e investigadores de todo el mundo en el ámbito de la máscaras fotografía, NGL máscaras, y las tecnologías conexas para discutir los últimos avances, aplicaciones y tendencias futuras. El programa del congreso contará con ponencias invitadas, ponencias, sesiones de carteles, y mesas redondas. Photomask Japan es una oportunidad ideal para presentar el equipo en relación con la tecnología fotomáscara, piezas, materiales y software.